株式会社フィルテック


    〒113-8656
    東京都文京区弥生2-11-16 東京大学 武田先端知ビル307号室
    TEL:03-3868-9051
    FAX:03-3868-9052


    平成13年5月21日


    3億5,092万円
    決算期:12月


    代表取締役 古村 雄二  経歴
      取締役    西原 晋治
      取締役    村  直美
      取締役    鈴木 武雄
      取締役    佐野 睦典
      取締役    山上 公久
      監査役    蜂谷 晴彦
      監査役    井上 信市


    りそな銀行市ケ谷支店     東京都民銀行茅場町支店
    三菱東京UFJ銀行神田支店


株式会社アドバンテスト / アプリシアテクノロジー株式会社 / 株式会社 アルバック /
株式会社荏原製作所 / 株式会社 エフオーアイ / エルピーダメモリ株式会社 /
キヤノンアネルバ株式会社 / JSRトレーディング株式会社 / シナジーテック株式会社 /
大日本スクリーン製造株式会社 / 大陽日酸株式会社 / 株式会社ディスコ /
東京エレクトロングループ / 株式会社東京精密 / 東京大学 / 東芝グループ /
内外テック株式会社 / 株式会社ニコン / 日産化学工業株式会社 / 日新イオン機器株式会社 / 日本エー・エス・エム株式会社 / 株式会社日本製鋼所 / 日立製作所グループ /
富士通グループ / 富士フイルム株式会社 / 株式会社フジミインコーポレーテッド /
ルネサステクノロジグループ / Applied Materials,Inc. / Lam Research Corporation /
Varian Semiconductor Equipment Associates Inc.


平成13年5月 資本金2000万円にて東京都千代田区平河町2−5−7に
株式会社フィルテックを設立する。 
   
平成13年8月 東北大学と超微細加工システム(]線露光装置)利用に関する協定契約締結(平成18年3月終了)。
同システム利用のために「微細パタン技術研究コンソーシアム」を設立し代表となる。
   
平成14年3月 UFJニューフロンティア企業育成基金より助成事業として認定されて助成金交付を受ける。
   
平成14年11月 同装置システムで世界で初めて300mmシリコンウエハ上にX線露光パタンを転写する。
100nmの微細パタン付きX線露光300mmウエハを供給開始。
   
平成15年4月 初めてベンチャーキャピタルから投資を受けて資本金を8900万円に増額。
   
平成15年6月 本社を東京都千代田区麹町5−7秀和紀尾井町TBRビル401に移転。
   
平成15年7月 応用物理次世代リソグラフィー研究会にて「X線リソグラフィー使用100nm加工の300mmウエハ供給」の題で発表する。
   
平成15年12月 日本経済新聞に「11社4大学が連合」[X線で半導体回路加工」の見出しで紹介される。
日本産業新聞にセミコンジャパン2003で注目されるベンチャー企業として紹介される。
日本経済新聞が、広島県が県外ベンチャー誘致育成第1号企業に当社を選定したと紹介する。
   
平成15年12月 1億7500万円に資本金を増額。
   
平成16年2月 広島県が貸与するオフィス「ベンチャービレッジひろしま」に事務所を設置する。
   
平成16年3月 早稲田大学が開発した20nmをX線で描画する技術を実用化する会社として日経産業新聞が紹介する。
国際ナノテクノロジー総合展にて「X線リソグラフィーが開く夢の商品」の題で講演する。
   
平成16年6月 応用物理次世代リソグラフィー研究会にて「X線リソグラフィーを成長市場に応用する」の題で講演する。
   
平成16年7月 2億580万円に資本金を増額。
   
平成16年9月 線幅100nm級の検査用ウエハ発売を日経産業新聞が掲載。
   
平成17年1月 英文雑誌MICROのEditor’s pageに新しい開発サービスの会社として紹介される。
NEDO助成金研究の1年目申請が受理されパウダー状のアンテナ製造研究が開始。
チャージアップモニター300mmTEGウエハを発売。
   
平成17年12月 本社を東京都千代田区麹町4-3-4 宮ビル5階に移転
   
平成18年1月 直径20nmの孔を作製した検査用ウエハ発売を日経産業新聞が掲載。
NEDO助成金研究の2年目申請が受理されパウダー状のアンテナ製造研究を継続して開始。
   
平成18年2月 あすかプロジェクトに貢献したことが認められ、Seleteから感謝状を受ける。
100nm CMP検査TEGウエハを開発しサンプル頒布開始。
   
平成18年3月 当社作製の試料を用いて新潟大学・富士通研究所がシリコン結晶中の原子空孔を測定することに成功。物理論文謝辞で感謝受ける。
3億5092万円に資本金を増額。
   
平成18年5月 原子空孔の測定物理とシリコン結晶品質の関係を産業界に理解させるためのセミナーを開催。
   
平成19年8月 YSTにチャージダメージをワイブル分布で表現するサービス開始。
   
平成20年5月 太陽電池に関する特許を出願。
   
平成21年3月 平成20年度 NEDO 産業技術実用化開発費補助事業の申請が受理(当社としては2回目)。
RF温度測定TEGシステムの開発開始。