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Heat-Beam annealing of a moving substrate up to 1000℃

移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置 移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置 移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置 移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置 移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置 移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置 移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置 移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置 移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置 移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置 移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置 移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置 移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置 移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置 移動する基板表面を1000℃まで加熱するHeat Beam装置

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