膜付きウエハ・成膜受託加工テストウエハ

膜付きウエハ・成膜受託加工

BLANKET FILM WAFERS

フィルテックでは、半導体膜・絶縁膜・金属膜などの成膜・めっき加工を受託し、膜付きウエハをご提供しています。

基板の手配から成膜までを一括でお任せいただけるほか、前後の工程をお客様側で進め、製造・開発プロセスのうち成膜工程だけをご依頼いただくこともできます。成膜後のカットも承ります。

ケースに収納された膜付きウエハ

膜付きウエハ・成膜受託加工のご相談

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膜付きウエハの用途・活用例

  • エッチング・CMP・洗浄の基礎評価パターンのない膜付きウエハを、エッチレート、研磨レート、選択性、除去性などの基礎評価に使用します。
  • 膜厚・膜応力などの特性評価膜厚、膜応力、シート抵抗、光学特性など、膜そのものや測定条件を検討するための試料として使用します。
  • 電極・シード・バリア膜の検討電極膜、めっき用シード層、拡散防止用バリア膜など、後工程に必要な材料膜を検討するために使用します。
  • 反りを付与した評価用ウエハ成膜によって生じる膜応力を利用し、意図的に反りを持たせたウエハを、評価や実験に使用します。
  • 膜材料・膜構成の比較異なる膜種や膜構成の膜付きウエハを用意し、研究開発における材料選定や比較検討に使用します。

対応基板・膜種・成膜方法

対応基板

項目内容
対応基板サイズ4インチ(100 mm)、6インチ(150 mm)、8インチ(200 mm)、12インチ(300 mm)
対応基材シリコンウエハのほか、化合物半導体ウエハ、石英・ガラス基板、セラミックス、チップ、角形基板などにも対応します。

膜種と成膜方法

分類膜種成膜方法
酸化膜Th-SiO2Thermal
P-SiOPECVD
ALD-SiOALD
P-TEOSPECVD
LP-TEOSLPCVD
HDPPECVD
USGPECVD
PSGCVD
BPSGCVD
シリコン膜Poly-SiLPCVD
α-SiPECVD
窒化膜LP-SiNLPCVD
P-SiNPECVD
カーボン膜α-CPECVD
SoCCoating
フォトレジストI-LineCoating
KrFCoating
ArFCoating
Low-K膜(SiOC)BDCVD
AURORACVD
CORALCVD
メタル・その他Ta、TaNPVD
Ti、TiNPVD
W、WNPVD、CVD
CrPVD
CuPVD
Al、Al-Cu、Al-SiPVD
PtPVD
NiPVD
RuPVD、CVD、ALD
AuPVD
Mo、MoSi2、Mo2N、MoOPVD
CoPVD、CVD、ALD
SiGe、SiC、SiCNPVD、CVD
HfO2PVD、ALD
ZrO2PVD、ALD
AL2O3PVD、ALD
めっきCu電解めっき
Ni電解めっき
Au電解めっき
SnAg電解めっき
AuSn電解めっき
In電解めっき
Rh電解めっき

※PVD:スパッタリング、蒸着、イオンプレーティング等。

※べた膜へのめっきのほか、バンプ・配線・Padなどのパターニングめっきにも対応します。

※対応可否は、膜種・成膜方法・加工方法・膜厚・サイズ・形状・基材条件により異なります。

ご相談時にお知らせいただきたい条件

ウエハサイズと枚数のほか、お決まりの項目を分かる範囲でお知らせください。ご相談に沿って対応内容をご案内します。

項目内容
用途・内容ご評価目的や用途、ご希望内容
膜種形成したい膜の種類や成膜方法
膜厚ご希望の膜厚や公差
基板ご支給、もしくは基板込みの場合はご希望仕様

掲載表にない膜種・条件について

掲載表にない膜種・条件も、内容により対応できる場合があります。まずはお決まりの項目からご相談ください。