膜付きウエハ・成膜受託加工
BLANKET FILM WAFERS
フィルテックでは、半導体膜・絶縁膜・金属膜などの成膜・めっき加工を受託し、膜付きウエハをご提供しています。
基板の手配から成膜までを一括でお任せいただけるほか、前後の工程をお客様側で進め、製造・開発プロセスのうち成膜工程だけをご依頼いただくこともできます。成膜後のカットも承ります。

膜付きウエハ・成膜受託加工のご相談
お問い合わせ膜付きウエハの用途・活用例
対応基板・膜種・成膜方法
対応基板
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 対応基板サイズ | 4インチ(100 mm)、6インチ(150 mm)、8インチ(200 mm)、12インチ(300 mm) |
| 対応基材 | シリコンウエハのほか、化合物半導体ウエハ、石英・ガラス基板、セラミックス、チップ、角形基板などにも対応します。 |
膜種と成膜方法
| 分類 | 膜種 | 成膜方法 |
|---|---|---|
| 酸化膜 | Th-SiO2 | Thermal |
| P-SiO | PECVD | |
| ALD-SiO | ALD | |
| P-TEOS | PECVD | |
| LP-TEOS | LPCVD | |
| HDP | PECVD | |
| USG | PECVD | |
| PSG | CVD | |
| BPSG | CVD | |
| シリコン膜 | Poly-Si | LPCVD |
| α-Si | PECVD | |
| 窒化膜 | LP-SiN | LPCVD |
| P-SiN | PECVD | |
| カーボン膜 | α-C | PECVD |
| SoC | Coating | |
| フォトレジスト | I-Line | Coating |
| KrF | Coating | |
| ArF | Coating | |
| Low-K膜(SiOC) | BD | CVD |
| AURORA | CVD | |
| CORAL | CVD | |
| メタル・その他 | Ta、TaN | PVD |
| Ti、TiN | PVD | |
| W、WN | PVD、CVD | |
| Cr | PVD | |
| Cu | PVD | |
| Al、Al-Cu、Al-Si | PVD | |
| Pt | PVD | |
| Ni | PVD | |
| Ru | PVD、CVD、ALD | |
| Au | PVD | |
| Mo、MoSi2、Mo2N、MoO | PVD | |
| Co | PVD、CVD、ALD | |
| SiGe、SiC、SiCN | PVD、CVD | |
| HfO2 | PVD、ALD | |
| ZrO2 | PVD、ALD | |
| AL2O3 | PVD、ALD | |
| めっき | Cu | 電解めっき |
| Ni | 電解めっき | |
| Au | 電解めっき | |
| SnAg | 電解めっき | |
| AuSn | 電解めっき | |
| In | 電解めっき | |
| Rh | 電解めっき |
※PVD:スパッタリング、蒸着、イオンプレーティング等。
※べた膜へのめっきのほか、バンプ・配線・Padなどのパターニングめっきにも対応します。
※対応可否は、膜種・成膜方法・加工方法・膜厚・サイズ・形状・基材条件により異なります。
ご相談時にお知らせいただきたい条件
ウエハサイズと枚数のほか、お決まりの項目を分かる範囲でお知らせください。ご相談に沿って対応内容をご案内します。
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 用途・内容 | ご評価目的や用途、ご希望内容 |
| 膜種 | 形成したい膜の種類や成膜方法 |
| 膜厚 | ご希望の膜厚や公差 |
| 基板 | ご支給、もしくは基板込みの場合はご希望仕様 |
掲載表にない膜種・条件について
掲載表にない膜種・条件も、内容により対応できる場合があります。まずはお決まりの項目からご相談ください。