フィルテックの対応
在庫品は、1週間以内を目安に発送可能です。
既存マスクの流用、新規マスクの作成、直接描画装置によるフォトマスクを使わない露光などから、エッチング加工によるトレンチパターン形成、ホールパターン形成などが可能です。4～12インチ、チップまで対応いたします。
フィルテックでは、在庫品のご提供と、新規の受託加工のどちらにも対応しています。
寸法表記について：PT063のトレンチ幅はマスク寸法、6インチ品のトレンチ幅は加工後の完成寸法です。マスク寸法と完成寸法は異なります。
トレンチパターンウエハとは
トレンチパターンウエハとは、溝形状に加工したパターンウエハで、カバレッジ、埋め込み特性などの評価に使用するテストウエハです。
トレンチ断面の上面、側壁、底部に形成された膜を観察することで、コンフォーマリティ、ステップカバレッジを評価できます。幅や深さの異なる構造を使えば、高アスペクト比構造に対する成膜状態を比較できます。
上面、側壁、底部の膜厚や膜質の差を、圧力、温度、原料供給時間、ガス流量、パージ時間、プラズマ条件などの成膜条件で比較できます。
圧力、温度、投入パワーなどの条件とステップカバレッジの関係を確認できます。
底部からの成長、側壁への析出、シームやボイド、トレンチ内部の充填形状を断面から確認できます。
評価事例｜PVD-Cu膜のカバレッジ
フィルテックが作製したTEGを用いて、PVD-Cu膜のカバレッジ評価を行った事例です。
仕様や加工条件についてご相談いただけます。
お問い合わせ8インチトレンチパターンウエハ（PT063）
200mm径のシリコンウエハに、酸化膜ハードマスクプロセスを用いたボッシュDRIE（Siエッチング）でトレンチを形成した製品です。0.2µmから10µmまでのマスク寸法を持ち、1チップ内に幅、間隔、本数の異なる複数のパターングループを配置しています。標準仕様とは別に、トレンチ深さを変更したカスタム製作もご相談いただけます。
基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| ウエハサイズ | 8インチ（200mm） |
| ウエハ形状 | ノッチ |
| マスク名称 | PT063 |
| チップサイズ | 18mm角 |
| マスク寸法 | 0.2µm～10µm |
| トレンチ長さ | 3.5mm |
| 加工方式 | ボッシュDRIE |
| 提供形態 | 8インチウエハ／18mm角チップ |
パターン・配置・ショットレイアウト
PT063のGr配置
PT063のショットマップ
PT063の幅・間隔・本数
表内の寸法組は、トレンチ幅／隣接するトレンチとのスペース（エッジ間距離）の順で表記しています。中心間ピッチではありません。たとえば「0.4µm／1.2µm」は、トレンチ幅0.4µm、スペース1.2µm、中心間ピッチ1.6µmです。
| グループ | トレンチ幅（マスク寸法）／スペース | 本数・配置 |
|---|---|---|
| Gr5 | 0.4µm／1.2µm、0.5µm／1.5µm、0.6µm／1.2µm、1µm／2µm、2µm／2µm | 各50本 |
| Gr6 | 0.2µm／1.2µm、0.25µm／1.25µm、0.3µm／1.2µm、0.35µm／1.4µm、0.4µm／1.6µm、0.5µm／2µm、0.6µm／2.4µm、1µm／4µm | 各20本 |
| Gr7 | 0.2µm／1.8µm、0.25µm／2.25µm、0.3µm／2.7µm、0.35µm／3.15µm、0.4µm／3.6µm、0.5µm／4.5µm、0.6µm／5.4µm、1µm／9µm、2µm／11µm、5µm／10µm | 各10本 |
| Gr8 | 0.2／0.25／0.3／0.35／0.4／0.5／0.6／1／2／5µm | 間隔30µm |
| Gr10 | 1µm／4µm、2µm／5µm、5µm／7µm、10µm／10µm | 20本、20本、10本、5本／4回配置 |
単位：µm／トレンチ長さ：3.5mm
製造例｜断面SEM観察による加工結果
製造品のウエハ中央チップと外周チップを断面SEMで観察した加工結果です。トレンチ長さ3.5mm部の深さ、トップ寸法、ミドル寸法を測定しています。
測定値
ウエハ中央
| マスク寸法 | 深さ | トップ寸法 | ミドル寸法 |
|---|---|---|---|
| 0.2 | 20.7 | 0.49 | 0.59 |
| 0.25 | 22.0 | 0.49 | 0.66 |
| 0.3 | 22.9 | 0.49 | 0.70 |
| 0.35 | 23.9 | 0.53 | 0.75 |
| 0.4 | 24.8 | 0.67 | 0.81 |
| 0.5 | 26.3 | 0.82 | 0.92 |
| 0.6 | 27.5 | 0.90 | 1.02 |
| 1.0 | 31.6 | 1.24 | 1.41 |
| 2.0 | 38.5 | 2.01 | 2.40 |
| 5.0 | 49.1 | 4.97 | 5.33 |
| 10 | 56.5 | 9.80 | 10.21 |
単位：µm
ウエハ外周
| マスク寸法 | 深さ | トップ寸法 | ミドル寸法 |
|---|---|---|---|
| 0.2 | 19.6 | 0.46 | 0.57 |
| 0.25 | 20.8 | 0.44 | 0.61 |
| 0.3 | 21.8 | 0.43 | 0.65 |
| 0.35 | 22.7 | 0.44 | 0.71 |
| 0.4 | 23.5 | 0.56 | 0.75 |
| 0.5 | 25.1 | 0.71 | 0.85 |
| 0.6 | 26.3 | 0.81 | 0.93 |
| 1.0 | 30.4 | 1.12 | 1.30 |
| 2.0 | 37.3 | 1.97 | 2.23 |
| 5.0 | 47.3 | 4.92 | 5.13 |
| 10 | 54.4 | 9.85 | 9.98 |
単位：µm
中央・外周の断面SEM
注記：断面SEM画像は、酸化膜ハードマスク除去前に撮影しています。製品ウエハは酸化膜ハードマスク除去後に出荷します。
低倍率
マスク寸法0.2µm
マスク寸法0.5µm
マスク寸法2µm
マスク寸法10µm
6インチトレンチパターンウエハ
150mm径のシリコンウエハに、ノンボッシュのSiエッチングで、加工後の完成寸法が0.5µm、1µm、2µmのトレンチを形成した製品です。ボッシュDRIEで生じる周期的な側壁のスキャロッピングがないトレンチを評価に使用できます。
基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| ウエハサイズ | 6インチ（150mm） |
| ウエハ形状 | オリフラ（長さ47.5 ± 2.5mm） |
| トレンチ幅（完成寸法） | 0.5µm、1µm、2µm |
| 加工方式 | ノンボッシュSiエッチング |
| 提供形態 | 6インチウエハ／約15mm角チップ |
| チップ構成 | 完成寸法0.5µm、1µm、2µmを各3領域／合計9領域 |
製造例｜断面SEM観察による加工結果
| トレンチ幅（完成寸法） | 加工後の深さ |
|---|---|
| 0.5µm | 5.2µm |
| 1µm | 6.5µm |
| 2µm | 7.6µm |
ショットレイアウト／ダイシングライン
完成寸法0.5µm、1.0µm、2.0µmの領域を配置したショットレイアウトです。赤い破線は、各寸法を3領域ずつ、合計9領域含む約15mm角チップのダイシングラインです。
製造例の断面SEM
