SADP (Self-Aligned Double Patterning)を用いたLine & Spaceパターンウエハ。
コアパターン材料をSiNとし300mmウェハ上にSiOの25nm L＆S を形成する。
途中段階のウエハを用い下記の様な評価が可能です。
SADP 25nm L&S パターンウエハテストウエハ
SADP 25nm L&S パターンウエハ
- コアパターン形成状態のウエハを持ちたカバー膜のカバレッジ評価
- エッチバック前の状態のウエハでエッチバックの性能評価
- コアパターン除去前の状態のウエハでコア膜の除去性評価
プロセスフロー図
断面イメージ図
測長SEM画像