カスタム設計パターンウエハテストウエハ

カスタム設計パターンウエハ

既存パターンでは評価目的に合致しない場合、カスタム設計によるパターンウエハの作製を承ります。
パターンのイメージ図や最小加工寸法をご提示いただければ、GDSデータの作成からマスク(レチクル)製作、フォトリソ工程まで一貫対応可能です。
また、膜厚測定、断面観察、洗浄やCMP、ダイシングなど、目的に応じた測定検査や加工にも柔軟に対応いたしますのでご相談ください。

カスタム設計パターンウエハの作業フロー

1.お客様からの情報提供例

ご希望の断面構造、材料、平面図の寸法イメージをご指示ください

2.パターンウェハのGDS作成例

3.GDSからマスク作製

ウエハ製造に相応しい仕様のマスクを作製します。縮小露光機に使われるマスクはレチクルとも呼ばれます。

バイナリーマスク

ハーフトーンマスク(ペリクル付き)

4.マスクを使ったパターンウエハ作製

枚葉ケースでの納品形態

FOSB(複数ウエハケース)での納品形態

ご要望に応じ製造時の断面SEM観察を行います。
ウエハの出荷は複数枚のウエハをまとめたケース(FOSB)収納での出荷 もしくは枚葉ケースで1枚毎のケース収納での出荷が可能です。

狙い目パターン部の断面SEM写真