現像装置

半導体製造プロセスのフォトリソグラフィ工程において、基板ウエハ上の感光したレジストに現像液をかけてレジストパターンを形成する装置。
レジストの種類で溶出する部分が異なり、ポジ型＝感光した部分が溶け出し、ネガ型＝感光した部分が溶け出す。
現像方法として、ディップ式、パドル式、スプレー式があり、一般に使われているのはパドル式。