フォトリソグラフィ工程

基板ウエハ上にレジストのパターンを形成する工程のこと。
光とフォトマスクを使って基板ウエハ上のレジストを感光させてパターンを形成する。

微細な回路を作るためには波長の短い光でレジストを感光させる必要があるため、半導体の微細化の進展とともに光の波長はどんどん短くなっている。
波長をスペクトル線の名前で呼び、g線(436nm)、i線(365nm)、KrFエキシマレーザー光(248nm)、ArFエキシマレーザー光(193nm)、EUV光(13.5nm)と
微細化の進展とともに波長が短くなり名前が変遷。

現在最先端の半導体回路の製造に使われているEUV光はX線の一種。