フォトマスク

フォトリソグラフィ工程で使う部材のことで英語表記はPhotomask。
半導体製造工程において、デバイスの回路パターンをウエハに転写する際に使用する原版のこと。

石英板にクロム等の金属薄膜のパターンを形成したもので、このマスクに光を当てて基板ウエハ上のフォトレジストを感光させることで
マスクと同じパターンのレジストのパターンを基板ウエハ上に形成する。
微細な転写を可能にするハーフトーンマスクやフェイズシフトマスクなどの種類がある。