ECRプラズマ

Electron Cyclotron Resonance Plasmaの略称。
高密度のプラズマを発生させる技術の一つ。
875ガウスの磁界中で2.45GHzのマイクロ波を入射させると、電子のサイクロトロン運動周期にマイクロ波周波数が一致して共鳴現象がおきる。
この電子の共鳴運動をガスの励起に利用して発生させる高密度のプラズマをECRプラズマという。
このECRプラズマで形成されたイオン粒子を基板側のバイアスで引き込んで成膜するECRプラズマCVDでは低温（200℃）で耐水性(水を通さない性質)に
優れた異方性のCVD酸化膜を形成することが可能であり、高信頼性の層間絶縁膜として利用できる。