LP-CVD

Low Pressure CVDの略称で減圧CVDのこと。
大気圧より低い（0.1～１kPa近傍）の圧力で反応させるCVDを指し、代表的なプロセスとしてPoly-Si CVDやSiN CVDがある。

高温での原料ガスの分解・反応プロセスを使うことからホットウォール型CVD装置が使われることが多い。

（関連項目：ホットウォール型CVD）