サリサイド

英語ではSalicide （Self-Aligned Silicide）と表記し、自己整合シリサイドが正式名称。

MOSトランジスタのゲート電極とソース・ドレイン電極を同時に低抵抗化するためシリサイドをゲート電極とソース・ドレイン電極に対して
自己整合的に形成する技術をいう。
この技術には高融点金属としてTiやCoが用いられている。