スパッタリング

物理的に微細粒子を基板に着床させるPVD法の一つ。
スパッタリング法では、プラズマで励起させたスパッタリングガス(Ar)を成膜部材（ターゲット）に衝突させて
飛び出してくる成膜部材の原子や分子を基板に着床させる。
DCマグネトロン法、二極法、RF法などの方法がある。