ArF露光

半導体製造プロセスのフォトリソグラフィ工程における基板ウエハ上のレジストを感光させる露光方法の一つ。
Ar(アルゴン)ガスとF(フッ素)ガスを使ったエキシマレーザーの発振から得られる波長193nmのArF線を用いる露光技術のこと。