ArF液浸露光

フォトリソグラフィ工程における基板ウエハ上のレジストを感光させる露光方法の一種。
露光機のレンズと基板ウエハ上のレジストとの間に純水をはさむことで、波長193nmのArFエキシマレーザー光の波長を134nmに短くさせ、解像度を向上させた露光技術。

通常の空気の屈折率n=1　に対して純水の屈折率n=1.44であることから、露光光の入射角度が緩和され焦点深度が1.44倍になることから193nm÷1.44=134nmの短い波長になる原理を使う。