KrF露光

フォトリソグラフィ工程における基板ウエハ上のレジストを感光させる露光方法の一種。
Kr(クリプトン)ガスとF(フッ素)ガスを使ったエキシマレーザーの発振から得られる波長248nmのKrF線を用いる露光技術のこと。