お知らせNews
CMP評価のためのCuめっき100nmトレンチ標準ウエハX2005の最新断面SEM写真を撮影しました
2006/09/13/
ニュース
研究・開発に“ストライエイションの無いエッチング技術”を追加しました
2006/08/30/
ニュース
2006/04/15/
ニュース
酸化膜が破壊する前に起きるリーク電流の増加でダメージを評価する新サービスを始めました。最先端デバイスの 製造歩留まりと信頼性の評価に有効です。
2006/04/01/
ニュース
2006/02/28/
ニュース
2006/02/24/
ニュース
20-50nm直径の孔パタンウエハの供給を開始しました。詳細はお問合せください
2005/09/01/
製品リリース
デバイスレベルの性能テスト要求に合わせてマット(matted:非光沢) Cuウエハも供給を開始しました。詳細はお問合せください
2005/09/01/
製品リリース
300mmチャージアップモニターTEG version2（製品番号：PD3002）の製品サービスを開始いたしました。従来の製品に比べ、ウエハ内の電気特性が改善され、より精度の高い評価が可能となりました。
2005/07/01/
製品リリース
2005/01/01/
製品リリース